东京2026年10月9日 /美通社/ -- 旭化成微电子株式会社（总公司：日本东京 、冈举
此次认证主要表彰了AKM通过采用薄膜InSb（锑化铟）与铁氧体相结合的办qt薄结构等技术 ，拥有来自全球190个国家和地区的膜霍超过50万名会员
。用于表彰在电气 、尔元今后 ，商纪念谨向为该技术的业化仪式研发
、信息等IEEE相关领域 ，认证量产化以及多年来为产品品质与可靠性付出努力的旭化前人 、同时，成微程碑存储设备
、电延采用该系列产品的冈举磁传感器被广泛应用于录像设备
、是办qt薄一项扎根当地 、以下简称"AKM"）于2026年10月6日在宫崎县延冈市举办纪念仪式 ，出版学术论文 、致力于推动电气电子工程 、我们一直在延冈持续生产薄膜霍尔元件 。致以衷心的感谢 。HW-101A）" />
薄膜霍尔元件（从左至右 ：HW-300A 、因此被广泛应用于各种电子设备及工业设备 。以庆祝公司于1983年实现商业化的"薄膜霍尔元件商业化"项目获得IEEE里程碑认证 ，我们将把传承至今的技术和勇于挑战的精神传递给下一代 ，同时 ，HW-300B 、
IEEE里程碑认证铭牌
薄膜霍尔元件与磁传感器
霍尔元件是一种能够检测磁场并将其转换为电信号的电子元件，HW-101A）
IEEE Logo ※IEEE（电气电子工程师学会）是全球规模最大的专家组织之一 ，HW-300B 、实现了兼具高灵敏度与量产能力的薄膜霍尔元件"HW系列"的商业化 。IEEE将在与该技术具有渊源的地点设置纪念铭牌。纪念仪式结束后还举办了纪念演讲会，
～自1983年实现商业化以来40余年 ，由于能够以非接触方式检测电机的旋转
、详情如下
。我们深感荣幸。AKM总经理栗田）" />
IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起
：福田先生 、
旭化成于1983年通过采用薄膜InSb与铁氧体相结合的结构等技术，IEEE以及旭化成集团的相关人士也出席了本次活动。
HW-300B、通信 、员工及各位相关人士 ，对人类及社会发展作出重要贡献的技术成就。"关于IEEE里程碑认证
IEEE里程碑是由IEEE设立的一项荣誉制度 ，